超聲波清洗源于二十世紀(jì)六十年代，超聲波清洗技術(shù)經(jīng)過(guò)幾十年的發(fā)展和改進(jìn)，不斷產(chǎn)生一些新技術(shù)，下面就對(duì)
超聲波清洗器應(yīng)用的一些新的發(fā)展方向作簡(jiǎn)單闡述。
1.高頻超聲清洗
對(duì)于象硅片表面小至零點(diǎn)幾微米的超微污物粒子，常規(guī)的超聲波清洗器無(wú)能為力，即使增加功率密度也無(wú)濟(jì)于事。近年來(lái)發(fā)展了一種兆赫茲級(jí)的高頻超聲清洗技術(shù)，由于頻率高，空化效應(yīng)已不起作用，因此清洗的關(guān)鍵不是氣泡，是高頻壓力波的擦洗作用，其對(duì)污物的去除率接近百分之百。高頻清洗進(jìn)來(lái)發(fā)展較快，主要用于超大規(guī)模集成電路芯片上的污物清洗，以及硅晶片、陶瓷、光掩模等特種污物的清洗。
2.聚焦式清洗
對(duì)于象紡織行業(yè)的噴絲板、過(guò)濾器之類微孔物件的清洗，常規(guī)的超聲清洗效果十分不理想，聲強(qiáng)達(dá)不到要求，而采用機(jī)械掃描聚焦式超聲清洗，噴絲板微孔中的污物脫離十分明顯。聚焦式清洗要求達(dá)到高的聲強(qiáng)，目前選用的頻率以低頻為主，常用20kHz和15kHz兩種頻率，個(gè)別的頻率也有28kHz的，其電功率在連續(xù)波情況下一般為500～700W，間隙脈沖工作狀態(tài)下，功率可高一些。
3.多頻清洗
即在一只清洗缸中，安裝有兩種或三種以上不同頻率的換能器，由多只發(fā)生器分別推動(dòng)各自頻率的換能器。我們知道，清洗工作頻率高時(shí)，在液體中空化強(qiáng)度低而空化密度大，而工作頻率低時(shí)則相反。低頻超聲波的強(qiáng)度高，對(duì)物體表面清洗有利；高頻超聲波空化密度高，沖擊波能穿達(dá)凹槽、細(xì)縫、深孔等細(xì)微結(jié)構(gòu)。同時(shí)缸中有多種頻率的超聲波，也克服了單頻清洗駐波場(chǎng)造成的清洗不均勻問(wèn)題。
4.掃頻和跳頻的清洗
掃頻和跳頻清洗都是為了改善缸中的聲場(chǎng)結(jié)構(gòu)，前者解決了缸中的不均勻駐波場(chǎng)，使清洗均勻。而跳頻和多頻一樣兼顧到高低頻清洗，不同的是跳頻用的是一只換能器和一只發(fā)生器，其換能器本身有兩個(gè)諧振頻率，在第一諧振點(diǎn)帶寬內(nèi)作連續(xù)的頻率變化，然后跳到另一帶寬內(nèi)進(jìn)行掃頻清洗。它是高低頻交替進(jìn)行清洗。
隨著科技的不斷進(jìn)步和超聲波清洗機(jī)技術(shù)的進(jìn)一步成熟，還會(huì)有更多新型的清洗工藝產(chǎn)生。超聲波清洗將會(huì)有著更加輝煌的明天。
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